三氟化氮毒性(三氟化氮有多危险)

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最好的回答是有毒，属于低毒物质。作为微电子工业中优良的等离子体刻蚀气体，三氟化氮在离子刻蚀过程中裂解成活性氟离子。这些氟离子用于硅和钨化合物。高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对于氧化硅和硅)。它在蚀刻过程中不会在蚀刻表面留下残留物，是一种非常好的清洁剂。同时，在芯片制造和高能激光器中得到了广泛的应用。您的浏览器不支持音频元素。

三氟化氮有毒，属于低毒物质。

三氟化氮在室温下是一种无色、无味、稳定的气体，是一种强氧化剂。作为微电子工业中优良的等离子体刻蚀气体，三氟化氮在离子刻蚀过程中裂解成活性氟离子。这些氟离子用于硅和钨化合物。高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对于氧化硅和硅)。它在蚀刻过程中不会在蚀刻表面留下残留物，是一种非常好的清洁剂。同时，在芯片制造和高能激光器中得到了广泛的应用。

三氟化氮的用途：

三氟化氮的主要用途是用作氟化氢-氟化物气体高能化学激光器的氟源。三氟化氮是微电子工业中优良的等离子体蚀刻气体。在刻蚀硅和氮化硅时，三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体具有更高的刻蚀速率和选择性，并且对表面无污染。特别是在厚度小于1.5微米的集成电路材料的刻蚀中，三氟化氮具有优异的刻蚀速率和选择性，不会在刻蚀表面留下残留物，也是非常好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业的大规模发展，其需求量将与日俱增。

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Tags： 氟化  离子  气体  

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